Японская компания Dai Nippon Printing усовершенствовала нанолитографию

Японская компания Dai Nippon Printing сделала шаг вперёд в области нанолитографии, предложив более экономичный вариант по сравнению с традиционной фотолитографией, которая в настоящее время занимает лидирующие позиции на рынке. Об этом сообщается в Nikkei Asia.

На данный момент нидерландская фирма ASML контролирует около 90% рынка оборудования для производства полупроводников, предоставляя машины для фотолитографии, основанной на использовании мощных УФ-лазеров. Этот процесс требует значительных энергозатрат и обходится в сотни миллионов долларов.

Новая технология от Dai Nippon Printing может изменить сложившуюся ситуацию, так как она возрождает нанолитографию, которая использует метод печати схем на кремниевых пластинах, а не рисования лазером. Ранее считалось, что данный способ не подходит для чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров.

Тем не менее, инженеры компании нашли способ обойти это ограничение, создав специальный материал для точного формирования схем. В дополнение к этому они используют оборудование Canon, которое может создавать структуры размером до 1,4 нм. В результате новая нанолитография оказывается на 90% дешевле фотолитографии.

Интерес к разработке проявили крупные производители, такие как Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia. Для широкого запуска технологии необходимо проверить её стабильность, и Kioxia уже начала тестовое производство. Если испытания будут успешными, массовое внедрение может начаться в 2027–2028 годах.