Российские учёные разработают новое оборудование для литографии

Российские исследователи разработали обширную дорожную карту по созданию собственного оборудования для литографии, включая технологии экстремального ультрафиолета, с горизонтом до 2037 года. Проект был подготовлен Институтом физики микроструктур РАН и основывается на уникальных технических решениях, отличающихся от архитектуры мирового лидера ASML.

Ключевые инновации включают использование гибридных лазеров, ксеноновых плазменных источников света и специальных зеркал из рутения и бериллия. Это позволит избежать проблем, связанных с повреждением шаблонов олова, а также уменьшить необходимость в иммерсионных жидкостях и сложной обработке.

Работы будут проведены в несколько этапов: к 2028 году планируется создание машины для литографии с разрешением 40 нм, затем в 2032 году — сканера для 14-нм техпроцессов, а к 2036 году — финальной версии системы для более 10 нм. Разработчики обещают снизить стоимость производства по сравнению с ASML, что может привлечь внимание небольших международных производителей. Однако использование нестандартной длины волны 11,2 нм потребует создания новой инфраструктуры, а успешность реализации плана ещё предстоит проверить.