Россия начнёт создание литографа для чипов с топологией 90 нм
В 2026 году в России стартуют работы по разработке литографа для производства полупроводников на основе топологии 90 нм. Об этом в ходе своего выступления на научно-технической конференции в области радиоэлектроники 20 марта 2026 года сообщил заместитель министра промышленности Василий Шпак. Исполнительные организации будут определены по итогам конкурса. Проектом занимается Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) в сотрудничестве с белорусской компанией «Планар», которая ранее работала с литографами на 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв отметил, что пока не принято
Read more