Samsung тестирует оборудование для 2-нм чипов в Техасе
В Тейлоре, штат Техас, компания Samsung начала тестирование оборудования для EUV-литографии с поддержкой голландского производителя ASML. Это открывает новые перспективы для Samsung в производстве 2-нм чипов на фоне ограничений, наложенных на TSMC.
- Тестирование оборудования проходит на заводе в Тейлоре.
- Samsung планирует нанять 1500 сотрудников для запуска производства.
- Предполагаемая ежемесячная производительность — 50 тыс. пластин.
- Проект частично финансируется в рамках «Закона о чипах».
- Полномасштабное производство запланировано на 2027 год.
Подготовка к запуску и набор сотрудников
Сейчас на заводе открыты 183 вакансии для инженеров и техников, которые будут заниматься литографией, травлением и другими процессами. Компания стремится привлечь местных специалистов, а также привлечёт 1500 инженеров от поставщиков оборудования, таких как Lam Research и KLA. Это увеличит общее количество сотрудников до примерно 3000 человек в период подготовки.
Технологические возможности завода
Помимо технологий 2-нм чипов, на заводе также будут работать с производственными узлами от 45 нм до 14 нм. Это говорит о том, что завод будет поддерживать существующие производственные процессы и потребности клиентов, включая предприятие Samsung в Остине.
| Параметры | Данные |
|---|---|
| Ежемесячная производительность | 50 тыс. пластин |
| Число новых сотрудников | 1500 (планируемое) |
| Общее число сотрудников (включая подрядчиков) | 3000 (планируемое) |
| Запуск полномасштабного производства | 2027 год |
Первоначальные испытания оборудования будут длиться от одного до трёх лет, что является более осторожной оценкой по сравнению с ранее заявленной целью по запуску серийного производства. Проект также получил предварительный грант в размере $6,4 млрд для поддержки строительства завода и обеспечения необходимых коммунальных услуг.