Китайская установка для литографии: шаг к независимости в производстве чипов

Китайские исследователи представили настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения, который делает значительный шаг к независимости страны в производстве микрочипов. Эта технология позволяет создавать микросхемы с топологическим узлом 14 нанометров. Хотя устройство не заменит машины голландской компании ASML, оно может эффективно использоваться для малосерийного производства чипов и других задач, таких как инспекция и создание прототипов квантовых процессоров. Новый источник использует фемтосекундный лазер и газ аргон, генерируя EUV с помощью высоких гармоник, что упрощает конструкцию и снижает зависимость от дорогих компонентов. При потреблении всего 1 микроватта на импульс, новая установка значительно дешевле традиционных машин ASML и занимает гораздо меньше места. Это достижение позволяет Китаю продвигаться вперед в области EUV-технологий, сокращая зависимость от западных технологий в условиях действующих санкций.