Китай запускает тестовое производство EUV-литографов для чипов

Китай завершает разработку литографов на основе экстремального ультрафиолета (EUV), с планами запустить тестовое производство в III квартале 2025 года. Новая система проходит испытания на заводе Huawei в Дунгуане. Это важный шаг к снижению зависимости от западных технологий, особенно после запрета Нидерландов на поставку оборудования ASML в Китай.

По информации Wccftech, китайская установка, использующая технологию лазерной плазменной обработки (LDP), начнет тестовый этап в 2025 году, а массовое производство ожидается в 2026-м. Прототипы уже испытываются в исследовательском центре Huawei. Метод LDP подразумевает испарение олова между электродами и ионизацию плазмы, что делает процесс более доступным и энергоэффективным.

Санкции США ограничили развитие полупроводниковой отрасли в Китае, однако новый подход к генерации EUV-излучения может изменить ситуацию. Исследования показывают, что данный метод отличается упрощенной конструкцией и потенциально низкими затратами по сравнению с традиционными технологиями. ASML, владея 90% рынка, уже ограничивает поставки в Китай, стремясь уменьшить свою зависимость от этого рынка.