Китай создал прототип литографа для чипов

Китайская полупроводниковая отрасль сообщила о создании первого прототипа литографического оборудования для экстремального ультрафиолета (EUV). Эта технология, ранее находившаяся под контролем голландской компании ASML, имеет ключевое значение для производства современных процессоров. Несмотря на усилия США по предотвращению передачи технологий Китаю, новые сведения подтверждают, что китайские инженеры добились значительного прогресса. На протяжении последних лет компании, такие как SMIC, пытались воспроизвести технологии ASML, используя опыт специалистов и обратную разработку. По информации, для создания прототипа были задействованы устаревшие компоненты от ASML. Ранее эта компания успешно добивалась судебных решений против своих бывших сотрудников из Китая за кражу коммерческих секретов. Хотя Китай еще не начал массовое производство чипов с использованием EUV, есть планы запустить этот процесс к 2030 году. Данный прогресс происходит на фоне активного технологического противостояния между США и Китаем, особенно в свете роста интереса к искусственному интеллекту. В это же время в Китае компания Huawei совместно с SMIC развивает сеть производственных мощностей. Литографические машины EUV – результат многолетних исследований, где мощный лазерный луч воздействует на каплю расплавленного олова, создавая ультрафиолетовое излучение для нанесения схем на кремний с микроскопическими элементами.