ASML анонсировала новую технологию для увеличения производства чипов

Компания ASML объявила о внедрении новой технологии, которая сможет значительно увеличить производственные мощности чипов, хотя результаты будут заметны не ранее чем через несколько лет. К 2030 году клиенты компании смогут обрабатывать около 330 кремниевых пластин в час на каждой машине, что на 50% больше по сравнению с текущими 220 пластинами.

Достигнуть таких показателей удалось за счет повышения мощности литографических машин до 1000 Вт, что более чем на 50% превышает мощность существующего инструмента NXE:3800E. ASML уверена, что в будущем возможно увеличение мощности до 1500 Вт, а препятствий для достижения значения в 2000 Вт не наблюдается.

Современные EUV-сканеры ASML используют метод, при котором крошечные капли олова обрабатываются серией импульсов CO2-лазера для генерации излучения. Чтобы добиться мощности в 1000 Вт, количество капель олова было удвоено до 100 000 в секунду, а импульсы лазера стали применяться в двух последовательностях. Ожидается, что новая технология будет внедрена в машины ASML примерно к 2030 году.